Ékszer PVD bevonógép

A Hard Film Deposition egy nagyon vékony anyagréteg – néhány nanométer és körülbelül 100 mikrométer közötti, vagy néhány atom vastagságú – technológiája a bevonandó „szubsztrát” felületre, vagy egy korábban felvitt bevonat kialakítására. rétegek. A vékonyréteg-lerakó gyártási folyamatok a mai félvezetőipar, a napelemek, CD-k, lemezmeghajtók és optikai eszközök iparának középpontjában állnak.

A vékonyréteg-leválasztást általában két nagy kategóriába sorolják: kémiai leválasztás és fizikai gőzleválasztásos bevonórendszerek.

A vákuumkemencék magnetronos porlasztásának sok fajtája létezik. Mindegyiknek más-más működési elve és alkalmazásobjektuma van. Egy dolog azonban közös bennük: a mágneses tér és az elektronok közötti kölcsönhatás hatására az elektronok spirálisan körbefutják a célfelületet, ezáltal megnő annak a valószínűsége, hogy az argongáz elektronszitálása ionokat termel. A keletkezett ionok elektromos tér hatására elérik a célfelületet, hogy kiporlasztják a célpontot. Az elmúlt évtizedek fejlődése során az állandó mágnesek fokozatosan elterjedtek, és a tekercsmágneseket ritkán használják.

A célforrás kiegyensúlyozott és kiegyensúlyozatlan típusokra oszlik. A kiegyensúlyozott célforrásnak egyenletes bevonata van, a kiegyensúlyozatlan célforrás bevonatnak pedig erős kötőereje van a hordozóhoz. A kiegyensúlyozott célforrásokat leggyakrabban félvezető optikai fóliákhoz, a kiegyensúlyozatlan céltáblákat pedig kopó dekorfóliákhoz használják.

Függetlenül az egyensúlytól vagy a kiegyensúlyozatlanságtól, ha a mágnes álló helyzetben van, a mágneses tér jellemzői meghatározzák, hogy az általános célkihasználási arány kevesebb, mint 30 százalék. A célanyag felhasználási arányának növelése érdekében forgó mágneses mezőt lehet alkalmazni. De a mágneses tér forgatásához forgómechanizmusra van szükség, és ezzel egyidejűleg a porlasztási sebesség csökken. A forgó mágneses tereket többnyire nagy vagy drága célpontokhoz használják. Ilyen például a félvezető filmporlasztás. Kis berendezésekhez és általános ipari berendezésekhez gyakran használják a mágneses mező statikus célforrását.

A fémek és ötvözetek mágnesronos célforrással könnyen porlaszthatók vákuumkemencében, a gyújtás és a porlasztás pedig nagyon kényelmes. Ennek az az oka, hogy a célpont (katód), a plazma és a porlasztott rész/vákuumkamra hurkot képezhet. De ha szigetelőket, például kerámiát porlasztó, az áramkör megszakad. Ezért az emberek nagyfrekvenciás tápegységet használnak, és erős kondenzátort adnak a hurokhoz. Ily módon a célanyag kondenzátorrá válik a szigetelő áramkörben. A nagyfrekvenciás magnetron porlasztó tápegység azonban drága, a porlasztási sebesség nagyon kicsi, és a földelési technológia nagyon bonyolult, ezért nehéz nagy léptékben használni. Ennek a problémának a megoldására találták fel a magnetron reaktív porlasztást. Vagyis fém célpontot használva, argont és reaktív gázt, például nitrogént vagy oxigént adunk hozzá. Amikor a fém célba találja az alkatrészt, az energiaátalakítás következtében egyesül a reaktív gázzal, és nitrideket vagy oxidokat képez.

Alkalmazás

   Paraméter

Cégünk

Népszerű tags: ékszer pvd bevonógép, Kína, beszállítók, gyártók, gyár, testreszabott, vásárlás, ár, árajánlat